Sắp diễn ra Triển lãm quốc tế ngành cấp thoát nước tại TP. Hồ Chí Minh
Sau dấu ấn thành công của Vietwater 2019 - Triển lãm quốc tế ngành cấp thoát nước, lần đầu được tổ chức vào tháng 7 vừa qua tại Hà Nội, triển lãm chuyên ngành ngành nước sẽ trở lại TP. Hồ Chí Minh từ ngày 6 – 8/11/2019.
Trên tổng diện tích hơn 10.000 mét vuông, với sự hiện diện của khoảng 400 đơn vị đến từ 38 quốc gia và vùng lãnh thổ, với 14 nhóm gian hàng quốc gia gồm: Anh, Đài Loan, Đức, Cộng hòa Séc, Hàn Quốc, Pháp, Phần Lan, Singapore, Thái Lan, Trung Quốc và Úc…; quy tụ những thương hiệu uy tín trong ngành như: Tsurumi Pump, Toshiba, Kurita, Emec, Seika Corp, HCP Pump, Turnowin, Namwonturboone, Tohin, Vina World Link, Balem, ARK, Đại Đồng Tiến Phát, Haus, Sơn Hà và nhiều đơn vị khác… Vietwater 2019 hy vọng sẽ thu hút đông đảo khách tham quan chuyên ngành đến trải nghiệm và khám phá các công nghệ tân tiến nhất hiện nay.
Với mục tiêu hướng tới hành trình xanh hóa đô thị và công nghiệp tại Việt Nam, triển lãm sẽ giới thiệu đến khách tham quan những công nghệ và thiết bị ứng dụng trong ngành xử lý chất thải và nước thải như công nghệ khí hóa, các phương pháp xử lý sinh học – cơ học – nhiệt cơ, công nghệ tái chế và phục hồi hiệu quả… Trong khuôn khổ triển lãm còn có hội thảo quốc tế, với chủ đề “Ngập úng đô thị - Thực trạng và giải pháp”.
Theo các chuyên gia, câu chuyện về biến đổi môi trường và khí hậu có nhiều chuyển biến phức tạp như hiện nay, trong đó, ô nhiễm nguồn nước là một trong những yếu tố ảnh hưởng nghiêm trọng nhất đến đời sống của con người. Chính vì vậy, việc bảo vệ và bảo tồn nguồn nước sẽ là chủ đề mang tính cấp bách nhất, đòi hỏi ngành cấp thoát nước phải có sự cải tiến vượt bậc về khoa học công nghệ và hệ thống xử lý.
Với chặng đường hơn mười năm đồng hành cùng ngành nước, Vietwater – Triển lãm quốc tế ngành cấp thoát nước, công nghệ lọc nước và xử lý chất thải tại Việt Nam được kỳ vọng là cầu nối tiềm năng, giúp kết nối thị trường, quảng bá và truyền thông rộng rãi các công nghệ hiện đại và phù hợp cho các ngành công nghiệp.